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Indagine conoscitiva n.6 del 18/05/2018

Utilizzando il reattore di deposizione DLC/sputtering presente in dipartimento, dovrà essere messo a punto almeno un processo di deposizione di film DLC su substrati metallici e caratterizzazione tribologica degli stessi mediante nanoindenter. Il processo di deposizione deve essere messo a punto anche eventualmente previa applicazione di un primer metallico (titanio o tungsteno) per magnetron sputtering. Del processo caratterizzato dalle migliori performances in termini di durezza, adesione e velocità, è necessario preparare 20 provini per le successive caratterizzazioni chimiche/prestazionali.

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Struttura  Dipartimento di Chimica

File PDF document icon N 6 inizio ind con.pdf — Documento PDF, 495 KB (507826 bytes)

Data di termine per la presentazione delle domande

25/05/2018 12:00

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Pubblicato il: 18/05/2018  Ultima modifica: 28/05/2018
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